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中国标准连续出版物号 ISSN 1001-4551 CN 33-1088/TH
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线性液动压抛光装置设计及其动压力分布研究*

作者:沈张军,文东辉*,袁巧玲 日期:2018-07-06/span> 浏览:221 查看PDF文档

                                                               线性液动压抛光装置设计及其动压力分布研究*
                                                                          沈张军,文东辉*,袁巧玲
                                                      (浙江工业大学 机械工程学院,浙江 杭州 310014)




摘要:针对以往液动压抛光装置中存在的压力较小、不均及离心力无法消除的问题,提出了一种线性液动压抛光方法。基于液体动压润滑理论,该方法在抛光液浸没环境中,以高速旋转的辊子带动抛光液对工件表面进行了材料微量去除;同时,设计了一种新型抛光辊子,并在辊子表面设计了不同形状的沟槽,加强了液动压效应;利用CFD软件,对抛光环境下的流体进行了数值模拟,得出了线性液动压抛光的流体压力分布,并与前人的研究结果进行了比较。研究结果表明:新装置所能形成的液体动压力明显大于以往装置,该线性抛光方式能够提高加工区域的流体压力,并能改善压力不均及离心力等问题,更好地满足超精密抛光的需求。

关键词:新型;液动压;旋转辊子;抛光;数值模拟

中图分类号:TH122;TG356.2+8                       文献标志码:A                  文章编号:1001-4551(2018)06-0586-04





本文引用格式:
沈张军,文东辉,袁巧玲.线性液动压抛光装置设计及其动压力分布研究[J].机电工程,2018,35(6):586-589.
SHEN Zhang jun, WEN Dong hui, YUAN Qiao ling. Design and dynamic pressure distribution of linear hydrodynamic polishing machine[J].Journal of Mechanical & Electrical Engineering, 2018,35(6):586-589.
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