声悬浮抛光磨粒微流场研究*

作者：林 云，王正伟，文东辉*，欧长劲 日期：2013-06-14/span> 浏览：3311 查看PDF文档

声悬浮抛光磨粒微流场研究*

林  云，王正伟，文东辉*，欧长劲
（浙江工业大学 机械工程学院， 浙江 杭州 310014）

摘要： 为了解决纳米试样超光滑表面的制备问题，将能提供稳定声压场的声悬浮抛光技术应用到流体抛光中，开展了声压场和磨粒流场之间关系的分析。利用Matlab /PDE工具箱对抛光装置内部声压仿真的方法，对比不同反射端对抛光槽声压场的影响，优化了适合抛光的反射端形状尺寸和发射端与反射端之间的距离。利用PIV测试分析了磨粒流场与声压场的相关性，建立了声压场和磨粒流场之间的关系。试验结果表明，磨粒的运动方向与声压等势线大致相同，而且磨粒的最大速度与声压大小成正比。
关键词： 声悬浮； 流体抛光； 磨粒流； PIV； 微流动
中图分类号： TG664；TH162+.1      文献标志码：A  文章编号：1001-4551（2013）03-0281-03

 

本文的文献著录格式：

林  云，王正伟，文东辉，欧长劲.声悬浮抛光磨粒微流场研究[J].机电工程,2013,30(3):281-283,287.
LIN Yun， WANG Zheng wei， WEN Dong hui， OU Chang jing.Reasearch of abrasive microflow for acoustic suspension polishing[J].Journal of Mechanical & Electrical Engineering,2013,30(3):281-283,287.