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双面抛光机上研磨盘振动抑制的半主动控制方法
作者：徐慧鑫，赵文宏*，陈晨，周芬芬，程城远 日期：2013-02-21/span> 浏览：3293 查看PDF文档
双面抛光机上研磨盘振动抑制的半主动控制方法
徐慧鑫，赵文宏*，陈晨，周芬芬，程城远
（浙江工业大学 机械工程学院，浙江 杭州 310032）
摘要：振动是影响超精密加工质量的关键因素之一，弹簧加压式双面抛光机在抛光过程中的上研磨盘振动现象严重制约了产品的加工精度。为解决这一问题，提出了在弹簧加压装置中加入磁流变阻尼器的方法，通过控制磁流变阻尼器阻尼系数来实现对双面抛光和上研磨盘振动的半主动控制，以达到抑制振动的效果。首先，对改进后的压力加载系统进行了数学建模，得到了抛光过程中上研磨盘的运动方程式；接着，对半主动控制的控制策略进行了设计，得到了其控制算法；最后，在Simulink中对半主动控制策略下的系统进行了仿真分析，并将其仿真结果与未加控制时的系统仿真结果进行了比较分析。比较分析结果表明，所设计的半主动控制方法能够有效抑制双面抛光机上研磨盘的振动现象。
关键词：双面抛光机；上研磨盘；振动抑制；磁流变阻尼器；半主动控制
中图分类号： TG356.28；TH39文献标志码：A文章编号：1001-4551（2012）11-1255-04
本文的文献著录格式：
徐慧鑫,赵文宏,陈晨,周芬芬,程城远.双面抛光机上研磨盘振动抑制的半主动控制方法机电工程,2012,29(11):1255-1259.
XV Huixin,ZHAO Wenhong,CHEN Chen,ZHOU Fenfen,CHENG Chengyuan.Semiactive control method of top lap′s vibration inhibition in double sided polishing machine[J],Journal of Mechanical & Electrical Engineering,2012,29(11):1255-1259.
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